AP-LTO - ochranná známka, majitel Air Products and Chemicals, Inc.

Základní údaje ochranné známky

Zdroj

OHIM

Číslo spisu

5667027

Reprodukce/Znění OZ

AP-LTO

Třídy výrobků a služeb

Datum podání přihlášky

06.02.2007

Datum zveřejnění prihlášky

16.07.2007

Datum zápisu

16.01.2008

Datum konce platnosti

06.02.2017

Přihlašovatel/vlastník

AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.

7201 Hamilton Boulevard

Allentown, US

18195-1501

Zástupce

KADOR & PARTNER

Corneliusstr. 15

München DE

804 69

Stav

Zapsaná

Druh

Slovní

Seznam výrobků a služeb

Chemické prekurzory pro ukládání fóliií z oxidu křemičitého do polovodičových zařízení.

Précurseurs chimiques pour le dépôt de films d'oxyde de silicium sur des dispositifs à semi-conducteurs.

Chemical precursors for depositing silicon oxide films in semiconductor devices.

Chemische Vorläufer für das Aufbringen von Siliziumoxydfilmen auf Halbleitergeräte.

Химични предходни вещества за депозиране на силиконови оксидни пластове в полупроводникови уреди.

Kemiske prækursorer til påføring af siliciumoxidfilm på halvledere.

Χημικές πρόδρομες ουσίες για τοποθέτηση μεμβρανών οξειδίου του πυριτίου σε διατάξεις ημιαγωγών.

Precursores químicos para depositar películas de óxido de sílice en dispositivos de semiconductores.

Ränioksiidkilede pooljuhtseadmetesse paigutamiseks kasutatavad keemilised eellased.

Kemikaalien esiasteet puolijohdelaitteiden silikonioksidikalvojen höyrypäällystykseen.

Vegyi prekurzorok félvezető eszközök szilíciumoxid-fóliával történő bevonására.

Precursori chimici per la deposizione di pellicole di ossido di silicio in dispositivi semiconduttori.

Cheminės pirminės medžiagos, skirtos silikono oksido plėvelių nusodinimui puslaidininkiniuose prietaisuose.

Ķīmiskas pirmdaļiņas silikona oksīdu filmu deponēšanai pusvadītāju ierīcēs.

Precursors kimiċi għat-tqegħid ta' kisja rqiqa ta' ossidu tas-silikon f'tagħmir ta' semikondutturi.

Chemische precursoren voor neerslag van siliciumoxidelaagjes op halfgeleiderapparaten.

Chemiczne prekursory do nanoszenia folii z tlenku krzemu w urządzeniach półprzewodnikowych.

Produtos químicos precursores para deposição de películas de óxido de silício em dispositivos semicondutores.

Precursori chimici pentru dispunerea de filme de oxid de silicon in dispozitivele cu semiconductori.

Chemické prekurzory na ukladanie vrstiev oxidu kremičitého na polovodičových zariadeniach.

Kemični prekurzorji za nalaganje silikonskih oksidnih filmov v polprevodniške naprave.

Kemiska föregångare för deponering av kiseloxida filmer i halvledaranordningar.

AP-LTO

Výpis údajů k ochranné známce AP-LTO byl pořízen dne 14.12.2011 13:20. Originál výpisu můžete najít na stránkách Úřadu průmyslového vlastnictví, Česká verze and English version

Majitel známky

Air Products and Chemicals, Inc.
Zobrazit známky	143 ochranných známek

Související stránky

Ochranné známky	Titulní stránka
Nové české	ÚPV-ČR
Nové světové	WIPO
Dnes končí	Konec platnosti známky
Zákon č. 441/2003	o ochranných známkách